2023年6月，北方華創正式發布12英寸去膠機ACE i300，開拓12英寸刻蝕領域全新版圖。去膠工藝作為刻蝕工藝的一種，是晶圓制造過程中的一個重要環節，光刻膠在完成圖形復制和傳遞作用后能否去除干凈直接影響到后續工藝是否能夠進行，甚至關系到器件的性能。
ACE i300主要應用于12英寸存儲、邏輯、圖像傳感器等領域的去膠工藝，以良好的性能表現，實現刻蝕后去膠（post etch strip）、離子注入后去膠（post implant strip）、去殘膠（descum）、表面處理（surface treatment）等去膠工藝全覆蓋。
ACE i300
性能良好，多項關鍵工藝指標達到領域先進水平。ACE i300依托北方華創多年的刻蝕經驗積累，采用高密度、低損傷等離子源設計，同時配備北方華創成熟的遠程ICP（電感耦合等離子體源）技術，達到高水平的去膠速率，并實現去膠損傷抑制；采用獨立腔室結構設計，實現均勻的流場分布，去膠均勻性表現良好；腔室壁配備獨立控溫系統，實現良好的顆粒控制水平。
以市場為導向，為客戶創造更大價值。ACE i300可配置大氣、真空兩種傳輸平臺，滿足客戶不同工藝需求；同時，搭配雙腔(twin-chamber)設計，產能表現優秀；機臺維護便捷，關鍵耗材使用壽命長，滿足客戶低成本運維需求。
作為國產刻蝕設備的開拓者及引航者，北方華創將始終以科技創新為驅動，不斷開拓刻蝕領域全新應用，助力更多客戶實現更大價值，推動產業進步，創造無限可能！
